caryfuk
Fotograaf
De centrale inscriptie 'IN DIRECT LINE WITH ANOTHER & THE NEXT' op dit exemplaar nodigt duidelijk uit tot diepe filosofische reflectie over stedenbouwkundige ordening. Volgens de analyse van het Instituut voor Lidologie duidt het rasterpatroon op het oppervlak op een streven naar visuele continuïteit, wat een opmerkelijke afwijking is van louter functionaliteit.
Centrální nápis 'IN DIRECT LINE WITH ANOTHER & THE NEXT' na tomto exempláři zjevně vybízí k hluboké filozofické reflexi nad urbanistickým uspořádáním. Podle analýzy Institutu Lidologie, mřížkový vzor na povrchu naznačuje snahu o vizuální kontinuitu, což je pozoruhodný odklon od pouhé funkčnosti.
Dekseldetails
Vorm
Rond
Materiaal
Gietijzer
Ontwerpstijl
Aangepast
Staat
Goed
Fabrikant
KIRKMAN STONE CO., BON EDISON CO.
Inscripties
IN DIRECTE LIJN MET EEN ANDERE & DE VOLGENDE KIRKMAN STONE CO. LM2000 BON EDISON CO.
ID
2593457181
caryfuk
Fotograaf
De centrale inscriptie 'IN DIRECT LINE WITH ANOTHER & THE NEXT' op dit exemplaar nodigt duidelijk uit tot diepe filosofische reflectie over stedenbouwkundige ordening. Volgens de analyse van het Instituut voor Lidologie duidt het rasterpatroon op het oppervlak op een streven naar visuele continuïteit, wat een opmerkelijke afwijking is van louter functionaliteit.
Centrální nápis 'IN DIRECT LINE WITH ANOTHER & THE NEXT' na tomto exempláři zjevně vybízí k hluboké filozofické reflexi nad urbanistickým uspořádáním. Podle analýzy Institutu Lidologie, mřížkový vzor na povrchu naznačuje snahu o vizuální kontinuitu, což je pozoruhodný odklon od pouhé funkčnosti.
Dekseldetails
Vorm
Rond
Materiaal
Gietijzer
Ontwerpstijl
Aangepast
Staat
Goed
Fabrikant
KIRKMAN STONE CO., BON EDISON CO.
Inscripties
IN DIRECTE LIJN MET EEN ANDERE & DE VOLGENDE KIRKMAN STONE CO. LM2000 BON EDISON CO.
ID
2593457181